５源スパッタ装置

　５源スパッタ装置

　装置外観

　簡易取扱説明書

エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf

　概要

• 　5源RFマグネトロンスパッタ
  • 　ただしRF電源（300W）は1台
  • 　デポレート比較的低い　〜0.1nm/s@100W（DC自己バイアス90V程度）
• 　基板加熱可（<500℃）
• 　Cr、Ni、Au、Al、Cu等金属汎用
• 　ターゲットは2インチ
• 　試料4インチ（試料回転機構により膜厚均一化）

• 　比較的新しい装置だが、あまり使い易くない（試料導入、チャンバ清掃等やりにくい）

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