標準工程の例

　工程と必要装置/時間例

• 　極めて標準的なSOI-MEMSの工程例＞Simple_SOI_MEMS加工例.pdf
  • 　20um程度の活性層厚を持つSOIを上面、下面エッチングして構造体を形成します。電極形成なども行えば、加速度センサやジャイロなどのMEMSセンサの実現も容易です。マスクとSOIウエハが準備できれば、標準的なウエハプロセス工程は3日間で費用は￥55,000となります。