2源スパッタ装置
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2源スパッタ装置
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装置外観
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簡易取扱説明書
スパッタ簡易マニュアル.pdf
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概要
2源RFマグネトロンスパッタ JEOL JEC-SP360M
基板加熱可(<800℃)
Cr、Ni、Au、Al等金属汎用
NdFeB/Ta多層膜の実績有
4インチターゲット
バックスパッタ可
加熱無しの場合、4インチ5枚成膜可能、2源同時スパッタ可
古い装置、メーカのメンテ不可
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2源スパッタ装置
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添付ファイル:
スパッタ簡易マニュアル.pdf
1118件
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詳細
]
2源スパッタ装置.png
312件
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詳細
]
Last-modified: 2015-05-11 (月) 11:55:42 (3279d)
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