Top > 2源スパッタ装置

 2源スパッタ装置

 装置外観

2源スパッタ装置.png

 簡易取扱説明書

fileスパッタ簡易マニュアル.pdf

 概要

  •  2源RFマグネトロンスパッタ JEOL JEC-SP360M
  •  基板加熱可(<800℃)
  •  Cr、Ni、Au、Al等金属汎用
  •  NdFeB/Ta多層膜の実績有
  •  4インチターゲット
  •  バックスパッタ可
  •  加熱無しの場合、4インチ5枚成膜可能、2源同時スパッタ可
  •  古い装置、メーカのメンテ不可
    << < 2024.5 > >>
    [2源スパッタ装置]
    28
    29
    30
    1
    2
    3
    4
    5
    6
    7
    8
    9
    10
    11
    12
    13
    14
    15
    16
    17
    18
    19
    20
    21
    22
    23
    24
    25
    26
    27
    28
    29
    30
    31
    1

添付ファイル: fileスパッタ簡易マニュアル.pdf 1118件 [詳細] file2源スパッタ装置.png 312件 [詳細]

リロード   新規 編集 凍結解除 差分 添付 複製 名前変更   ホーム 一覧 単語検索 最終更新 バックアップ リンク元   ヘルプ   最終更新のRSS
Last-modified: 2015-05-11 (月) 11:55:42 (3279d)