TEOS-LP-CVD装置
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* TEOS-LP-CVD装置 [#pd06fdd0] ** 装置外観 [#cee4ec47] &ref(./TEOS-LP-CVD装置.png,50%); ** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34] &ref(./オープン実験棟:TEOS簡易マニュアル2014(佐野).pdf);&br;&ref(./170802_TEOSレートチェック.pdf); ** 概要 [#s212667c] - プラズマアシストLP-CVD - TEOSによるSiO2成膜(350℃) - 4インチウエハ導入可 - 成膜レート40nm/min程度 #calendar9
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* TEOS-LP-CVD装置 [#pd06fdd0] ** 装置外観 [#cee4ec47] &ref(./TEOS-LP-CVD装置.png,50%); ** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34] &ref(./オープン実験棟:TEOS簡易マニュアル2014(佐野).pdf);&br;&ref(./170802_TEOSレートチェック.pdf); ** 概要 [#s212667c] - プラズマアシストLP-CVD - TEOSによるSiO2成膜(350℃) - 4インチウエハ導入可 - 成膜レート40nm/min程度 #calendar9
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