汎用ICP-RIE装置
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* 汎用ICP-RIE装置 [#aeb6e834] ** 装置外観 [#cee4ec47] &ref(./汎用ICP-RIE装置.png,50%); ** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34] &ref(./インキュ:ICP-RIE簡易マニュアル2014(井上).pdf); ** 概要 [#s212667c] - Samco製 RIE-101iPH 汎用ドライエッチング装置 - 4インチ処理 - ダミーウエハへの貼り付けで異形ウエハもOK(基板He冷却) - シリコン、酸化膜、メタル、PZT等対象(ロードロック付き、塩素系OK) - Ar、O2、CF4/CH4/CHF3、BCl3、Cl2 - アンテナ1kW、プラテン500W *** その他情報 [#i317caf2] -Ar、Cl2、BCl3の設定可能なガス流量範囲 -- Ar:0-200sccm -- Cl2:0-100sccm -- BCl3:0-50sccm -- (0はバルブ閉、マスフローの制御可能範囲は最大流量の2-100%) -圧力の設定可能範囲 -- 最大13.33MPa -基板温度の設定可能範囲 -- 加熱機構なし -Antenna Power/Bias Powerの設定可能範囲 -- アンテナ/バイアス=1000/300W -基板支持方法 -- 静電チャック(ジョンソン-ラーベック方式) -- 絶縁物は裏面にメタル成膜するとチャックすると予想、またはSiダミーに貼り付けて処理可能 -オリフラや厚み等の基板の制限 -- 3t程度は問題なく搬入可能 -処理時間の制限 -- 制限は特になし -- 運用ルールとして、現在は基本的にその日の最後に1hrのクリーニングを実施 #calendar9
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* 汎用ICP-RIE装置 [#aeb6e834] ** 装置外観 [#cee4ec47] &ref(./汎用ICP-RIE装置.png,50%); ** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34] &ref(./インキュ:ICP-RIE簡易マニュアル2014(井上).pdf); ** 概要 [#s212667c] - Samco製 RIE-101iPH 汎用ドライエッチング装置 - 4インチ処理 - ダミーウエハへの貼り付けで異形ウエハもOK(基板He冷却) - シリコン、酸化膜、メタル、PZT等対象(ロードロック付き、塩素系OK) - Ar、O2、CF4/CH4/CHF3、BCl3、Cl2 - アンテナ1kW、プラテン500W *** その他情報 [#i317caf2] -Ar、Cl2、BCl3の設定可能なガス流量範囲 -- Ar:0-200sccm -- Cl2:0-100sccm -- BCl3:0-50sccm -- (0はバルブ閉、マスフローの制御可能範囲は最大流量の2-100%) -圧力の設定可能範囲 -- 最大13.33MPa -基板温度の設定可能範囲 -- 加熱機構なし -Antenna Power/Bias Powerの設定可能範囲 -- アンテナ/バイアス=1000/300W -基板支持方法 -- 静電チャック(ジョンソン-ラーベック方式) -- 絶縁物は裏面にメタル成膜するとチャックすると予想、またはSiダミーに貼り付けて処理可能 -オリフラや厚み等の基板の制限 -- 3t程度は問題なく搬入可能 -処理時間の制限 -- 制限は特になし -- 運用ルールとして、現在は基本的にその日の最後に1hrのクリーニングを実施 #calendar9
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