5源スパッタ装置
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* 5源スパッタ装置 [#bd87e54d] ** 装置外観 [#cee4ec47] &ref(./5源スパッタ装置.png,50%); ** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34] &ref(./エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf); ** 概要 [#s212667c] - 5源RFマグネトロンスパッタ -- ただしRF電源(300W)は1台 -- デポレート比較的低い 〜0.1nm/s@100W(DC自己バイアス90V程度) - 基板加熱可(<500℃) - Cr、Ni、Au、Al、Cu等金属汎用 - ターゲットは2インチ - 試料4インチ(試料回転機構により膜厚均一化) - 比較的新しい装置だが、あまり使い易くない(試料導入、チャンバ清掃等やりにくい) #calendar9
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* 5源スパッタ装置 [#bd87e54d] ** 装置外観 [#cee4ec47] &ref(./5源スパッタ装置.png,50%); ** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34] &ref(./エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf); ** 概要 [#s212667c] - 5源RFマグネトロンスパッタ -- ただしRF電源(300W)は1台 -- デポレート比較的低い 〜0.1nm/s@100W(DC自己バイアス90V程度) - 基板加熱可(<500℃) - Cr、Ni、Au、Al、Cu等金属汎用 - ターゲットは2インチ - 試料4インチ(試料回転機構により膜厚均一化) - 比較的新しい装置だが、あまり使い易くない(試料導入、チャンバ清掃等やりにくい) #calendar9
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