TEOS-LP-CVD装置 の変更点

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*　TEOS-LP-CVD装置 [#pd06fdd0]
**　装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./TEOS-LP-CVD装置.png,50%);
**　簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./オープン実験棟：TEOS簡易マニュアル2014（佐野）.pdf);&br;&ref(./170802_TEOSレートチェック.pdf);
**　概要 [#s212667c]
-　プラズマアシストLP-CVD
-　TEOSによるSiO2成膜(350℃)
-　4インチウエハ導入可
-　成膜レート40nm/min程度
#calendar9