標準工程の例 の変更点

• 追加された行はこの色です。
• 削除された行はこの色です。
• 標準工程の例 へ行く。
• 標準工程の例 の差分を削除

*　工程と必要装置/時間例 [#q9a65167]
-　極めて標準的なSOI-MEMSの工程例＞&ref(./Simple_SOI_MEMS加工例.pdf);
--　20um程度の活性層厚を持つSOIを上面、下面エッチングして構造体を形成します。電極形成なども行えば、加速度センサやジャイロなどのMEMSセンサの実現も容易です。マスクとSOIウエハが準備できれば、標準的なウエハプロセス工程は3日間で費用は\55,000となります。
--　20um程度の活性層厚を持つSOIを上面、下面エッチングして構造体を形成します。電極形成なども行えば、加速度センサやジャイロなどのMEMSセンサの実現も容易です。マスクとSOIウエハが準備できれば、標準的なウエハプロセス工程は3日間で費用は￥55,000となります。