電子ビーム描画装置 の変更点

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*　電子ビーム描画装置 [#oea9c50b]
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**　装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./電子ビーム描画装置.png,50%);
**　簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./インキュ：EB描画装置マニュアル2014(横松).pdf);
**　概要 [#s212667c]
-　LaB6使用小電流タイプ、30keV
-　最小線幅100nm、小領域50nm
-　試料カセット
-　5”角、４”丸、20mm角
-　露光エリア80x110mm角
-　線幅1µm、500µm角で1’30”程度
-　レジストレーション機能等
-　GDSII、bmpデータフォーマット
-　小面積ならマスク作成も可

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