５源スパッタ装置 の変更点

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*　５源スパッタ装置 [#bd87e54d]
**　装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./５源スパッタ装置.png,50%);
**　簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf);
**　概要 [#s212667c]
-　5源RFマグネトロンスパッタ
--　ただしRF電源（300W）は1台
--　デポレート比較的低い　〜0.1nm/s@100W
--　デポレート比較的低い　〜0.1nm/s@100W（DC自己バイアス90V程度）
-　基板加熱可（<500℃）
-　Cr、Ni、Au、Al、Cu等金属汎用
-　ターゲットは2インチ
-　試料4インチ（試料回転機構により膜厚均一化）

-　比較的新しい装置だが、あまり使い易くない（試料導入、チャンバ清掃等やりにくい）
#calendar9