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* 工事中 [#q9a65167]
- 標準的なMEMSプロセスの例をいくつか示し、そのような装置を、どのような使い、どの程度の時間使用すればプロセスが進むのか、提示する予定です。
#freeze
* 工程と必要装置/時間例 [#q9a65167]
- 極めて標準的なSOI-MEMSの工程例>&ref(./Simple_SOI_MEMS加工例.pdf);
-- 20um程度の活性層厚を持つSOIを上面、下面エッチングして構造体を形成します。電極形成なども行えば、加速度センサやジャイロなどのMEMSセンサの実現も容易です。マスクとSOIウエハが準備できれば、標準的なウエハプロセス工程は3日間で費用は¥55,000となります。



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