* 装置一覧 [#hd808eb6] ** 設計 [#f9a3d43a] #table_edit2(edit=on,table_mod=off,td_edit=off,form=text|select=_A_B_C|select=_D4F_Open1F_Open2F_Incu4F|text|select=_稼働_短期メンテ中_一時停止_故障_廃止_|text,){{ |装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h ||||||| ||||||| }} ** パターン形成 [#y8a47bf0] #table_edit2(edit=on,table_mod=off,td_edit=off,form=text|select=_A_B_C|select=_D4F_Open1F_Open2F_Incu4F|text|select=_稼働_短期メンテ中_一時停止_故障_廃止_|text,){{ |装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h |[[パターンジェネレータ]]||D4F|&ref(パターンジェネレータ/PG.pdf);|稼働|| |[[電子ビーム描画装置]]||Incu4F|&ref(電子ビーム描画装置/インキュ:EB描画装置マニュアル2014(横松).pdf);|稼働|| |[[マスクアライナ]]||Incu4F|&ref(マスクアライナ/インキュ:Canonアライナ簡易マニュアル.pdf);|稼働|| |[[両面マスクアライナ]]||D4F|&ref(両面マスクアライナ/CR1:両面アライナPEM-800 簡易マニュアル(山口).pdf);|稼働|| |[[両面マスクアライナその2]]||Open2F|&color(red){準備中};|稼働|| |[[DMD露光装置]]||D4F|&ref(DMD露光装置/DMD露光機簡易マニュアル.pdf);|稼働|| |[[スピンコータ]]||Incu4F|&color(red){準備中};|稼働|| |[[自作スプレーコータ]]||Incu4F|&ref(自作スプレーコータ/インキュ:スプレーコート マニュアル.pdf);|稼働|| |[[ナノインクジェット装置]]||Open2F|&ref(ナノインクジェット装置/オープン実験棟:インクジェット装置マニュアル2014(横松).pdf);|稼働|| }} ** 薄膜形成 [#cb071a1f] #table_edit2(edit=on,table_mod=off,td_edit=off,form=text|select=_A_B_C|select=_D4F_Open1F_Open2F_Incu4F|text|select=_稼働_短期メンテ中_一時停止_故障_廃止_|text,){{ |装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h |[[酸化/拡散炉]]||Incu4|&ref(酸化/拡散炉/インキュ酸化炉簡易マニュアル(100315).pdf);|稼働|| |[[高速熱処理装置(RTP)]]||D4F|&ref(高速熱処理装置(RTP)/RTA簡単マニュアル.pdf);|稼働|| |[[EB蒸着装置]]||D4F|&ref(EB蒸着装置/CR1 EB(TMP).pdf);|稼働|| |[[2源スパッタ装置]]||D4F|&ref(2源スパッタ装置/スパッタ簡易マニュアル.pdf);|稼働|| |[[5源スパッタ装置]]||Incu4|&ref(5源スパッタ装置/エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf);|稼働|| |[[PZTスパッタ装置]]||Incu4|&ref(PZTスパッタ装置/インキュ:PZTスパッタリング装置簡易マニュアル2014(井上).pdf);|稼働|| |[[LP-CVD装置]]||D4F|&ref(LP-CVD装置/LPCVD簡易マニュアル100315.pdf);|稼働|| |[[TEOS-LP-CVD装置]]||Open2F|&ref(TEOS-LP-CVD装置/オープン実験棟:TEOS簡易マニュアル2014(佐野).pdf);|稼働|| }} ** エッチング [#q0575c28] #table_edit2(edit=on,table_mod=off,td_edit=off,form=text|select=_A_B_C|select=_D4F_Open1F_Open2F_Incu4F|text|select=_稼働_短期メンテ中_一時停止_故障_廃止_|text,){{ |装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h |[[Deep-RIE装置]]||Incu4F|&ref(Deep-RIE装置/インキュ:Deep-RIE簡易マニュアル_プロセス編(池田).pdf);|稼働|| |[[汎用ICP-RIE装置]]||Incu4F|&ref(汎用ICP-RIE装置/インキュ:ICP-RIE簡易マニュアル2014(井上).pdf);|稼働|| |[[XeF2シリコンドライエッチング装置]]||Incu4F|&ref(XeF2シリコンドライエッチング装置/XeF2簡易マニュアル.pdf);|稼働|| }} ** アセンブリ [#v0e2c0a3] #table_edit2(edit=on,table_mod=off,td_edit=off,form=text|select=_A_B_C|select=_D4F_Open1F_Open2F_Incu4F|text|select=_稼働_短期メンテ中_一時停止_故障_廃止_|text,){{ |装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h |[[ダイシングマシン]]||D4F|&ref(ダイシングマシン/ダイサ.pdf);|稼働|| |[[陽極接合装置]]||D4F|&ref(陽極接合装置/陽極接合装置簡易マニュアル.pdf);|稼働|| |[[ウエハ/チップ接合装置]]||Incu4F|&ref(ウエハ/チップ接合装置/アユミ接合装置簡易使用マニュアル_0.pdf);|稼働|| |[[フリップチップボンダー]]||Open2F|&ref(フリップチップボンダー/オープン実験棟:フリップチップボンダー2014(横松).pdf);|稼働|| |[[精密研磨装置]]||Incu4F|&ref(精密研磨装置/ERATO研磨装置使用方法.pdf);|稼働|| |[[超音波ボンダ装置]]||D4F|&ref(超音波ボンダ装置/超音波ボンダ簡易マニュアル.pdf);|稼働|| }} ** 評価 [#h4799ecf] #table_edit2(edit=on,table_mod=off,td_edit=off,form=text|select=_A_B_C|select=_D4F_Open1F_Open2F_Incu4F|text|select=_稼働_短期メンテ中_一時停止_故障_廃止_|text,){{ |装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h |[[走査電子顕微鏡]]||Open1F|&ref(走査電子顕微鏡/オープン実験棟:JEOL-SEM簡易マニュアル2014(井上).pdf);|稼働|| |[[電界放射型走査電子顕微鏡]]||Open1F|&ref(走査電子顕微鏡/オープン実験棟:FE-SEM簡易マニュアル2014(井上).pdf);|稼働|| |[[原子間力顕微鏡]]||Open1F|&color(red){準備中};|稼働|| |[[表面段差計測装置]]||Incu4F|&ref(表面段差測定装置/表面段差計(20100316).pdf);|故障|| |[[共焦点顕微鏡]]||Incu4F|&ref(共焦点顕微鏡/コンフォーカル顕微鏡マニュアル.pdf);|稼働|| |[[白色干渉計]]||Open1F|&ref(白色干渉計/オープン実験棟:表面形状測定器(Zygo).pdf);|稼働|| ||||||| }} ---- * TEST [#t3c7c1c3] #table_edit2(td_edit=off,title_c=2,form=text|select=_20液晶_DVD_HDD_メモリ|radio=_無_有|textarea,edit=on,auth_check_off){{ |テキスト|選択|ラジオボタン|エリア|h |テキスト|||コメントエリア&br;| }} |