装置一覧のバックアップ差分(No.12)

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*　装置一覧 [#hd808eb6]
**　設計 [#f9a3d43a]
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|装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h
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}}
**　パターン形成 [#y8a47bf0]
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|装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h
|[[パターンジェネレータ]]||D4F|&ref(パターンジェネレータ/PG.pdf);|稼働||
|[[電子ビーム描画装置]]||Incu4F|&ref(電子ビーム描画装置/インキュ：EB描画装置マニュアル2014(横松).pdf);|稼働||
|[[マスクアライナ]]||Incu4F|&ref(マスクアライナ/インキュ：Canonアライナ簡易マニュアル.pdf);|稼働||
|[[両面マスクアライナ]]||D4F|&ref(両面マスクアライナ/CR1：両面アライナPEM-800　簡易マニュアル(山口).pdf);|稼働||
|[[両面マスクアライナその２]]||Open2F|&color(red){準備中};|稼働||
|[[DMD露光装置]]||D4F|&ref(DMD露光装置/DMD露光機簡易マニュアル.pdf);|稼働||
|[[スピンコータ]]||Incu4F|&color(red){準備中};|稼働||
|[[自作スプレーコータ]]||Incu4F|&ref(自作スプレーコータ/インキュ：スプレーコート　マニュアル.pdf);|稼働||
|[[ナノインクジェット装置]]||Open2F|&ref(ナノインクジェット装置/オープン実験棟：インクジェット装置マニュアル2014（横松）.pdf);|稼働||
}}

**　薄膜形成 [#cb071a1f]
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|装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h
|[[酸化／拡散炉]]||Incu4|&ref(酸化／拡散炉/インキュ酸化炉簡易マニュアル（100315）.pdf);|稼働||
|[[高速熱処理装置（RTP）]]||D4F|&ref(高速熱処理装置（RTP）/RTA簡単マニュアル.pdf);|稼働||
|[[EB蒸着装置]]||D4F|&ref(EB蒸着装置/CR1 EB(TMP).pdf);|稼働||
|[[２源スパッタ装置]]||D4F|&ref(２源スパッタ装置/スパッタ簡易マニュアル.pdf);|稼働||
|[[５源スパッタ装置]]||Incu4|&ref(５源スパッタ装置/エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf);|稼働||
|[[PZTスパッタ装置]]||Incu4|&ref(PZTスパッタ装置/インキュ：PZTスパッタリング装置簡易マニュアル2014(井上).pdf);|稼働||
|[[LP-CVD装置]]||D4F|&ref(LP-CVD装置/LPCVD簡易マニュアル100315.pdf);|稼働||
|[[TEOS-LP-CVD装置]]||Open2F|&ref(TEOS-LP-CVD装置/オープン実験棟：TEOS簡易マニュアル2014（佐野）.pdf);|稼働||
}}

**　エッチング [#q0575c28]
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|装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h
|[[Deep-RIE装置]]||Incu4F|&ref(Deep-RIE装置/インキュ：Deep-RIE簡易マニュアル_プロセス編(池田).pdf);|稼働||
|[[汎用ICP-RIE装置]]||Incu4F|&ref(汎用ICP-RIE装置/インキュ：ICP-RIE簡易マニュアル2014（井上）.pdf);|稼働||
|[[XeF2シリコンドライエッチング装置]]||Incu4F|&ref(XeF2シリコンドライエッチング装置/XeF2簡易マニュアル.pdf);|稼働||
}}

**　アセンブリ [#v0e2c0a3]
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|装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h
|[[ダイシングマシン]]||D4F|&ref(ダイシングマシン/ダイサ.pdf);|稼働||
|[[陽極接合装置]]||D4F|&ref(陽極接合装置/陽極接合装置簡易マニュアル.pdf);|稼働||
|[[]]||||||
|[[]]||||||
|[[]]||||||
|[[]]||||||
|[[ウエハ／チップ接合装置]]||Incu4F|&ref(ウエハ／チップ接合装置/アユミ接合装置簡易使用マニュアル_0.pdf);|稼働||
|[[フリップチップボンダー]]||Open2F|&ref(フリップチップボンダー/オープン実験棟：フリップチップボンダー2014(横松).pdf);|稼働||
|[[精密研磨装置]]||Incu4F|&ref(精密研磨装置/ERATO研磨装置使用方法.pdf);|稼働||
|[[超音波ボンダ装置]]||D4F|&ref(超音波ボンダ装置/超音波ボンダ簡易マニュアル.pdf);|稼働||
}}

**　評価 [#h4799ecf]
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|装置名|カテゴリ|設置場所|簡易取扱説明書|現在の状況|備考|h
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* TEST [#t3c7c1c3]


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|テキスト|選択|ラジオボタン|エリア|h
|テキスト|||コメントエリア&br;|
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装置一覧 のバックアップ差分(No.12)
