機器使用連絡フォーム
のバックアップ(No.12)
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機器使用連絡フォーム
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1 (2014-05-02 (金) 11:18:23)
2 (2014-05-02 (金) 12:17:32)
3 (2014-05-02 (金) 12:28:30)
4 (2014-05-05 (月) 18:19:05)
5 (2014-05-05 (月) 19:03:21)
6 (2014-05-06 (火) 12:08:21)
7 (2014-05-06 (火) 12:40:09)
8 (2014-05-06 (火) 15:34:05)
9 (2014-05-07 (水) 07:15:29)
10 (2014-05-10 (土) 10:03:15)
11 (2014-05-10 (土) 12:27:03)
12 (2014-05-10 (土) 14:21:14)
13 (2014-05-14 (水) 11:12:54)
14 (2014-05-14 (水) 13:45:03)
15 (2014-05-14 (水) 17:35:58)
16 (2014-05-15 (木) 09:27:30)
17 (2014-05-23 (金) 08:43:56)
18 (2014-12-15 (月) 10:41:35)
19 (2015-04-19 (日) 15:25:34)
20 (2015-09-18 (金) 19:43:28)
21 (2016-04-06 (水) 15:30:49)
22 (2016-10-07 (金) 09:40:12)
23 (2017-06-07 (水) 22:27:36)
24 (2017-07-10 (月) 10:03:45)
25 (2018-04-01 (日) 18:30:18)
26 (2020-09-30 (水) 08:09:28)
27 (2021-08-11 (水) 12:42:51)
28 (2022-04-13 (水) 23:00:05)
29 (2023-10-17 (火) 09:56:50)
30 (2024-04-01 (月) 16:10:59)
センター機器利用申し込みページ
はじめてご利用の場合には備考欄にその旨お書き添え下さい。
学内利用の場合、標準機器の場合、半日利用で¥5,000の課金が発生します。
複数装置を利用の場合は半日の利用で¥10,000となります。
特殊機器(
装置一覧
でAカテゴリの装置)のみ、半日利用が¥15,000です。この際、他の標準装置の利用も含みます。
事前に、各装置の予約状況をご確認下さい。
状況を確認の上、メイルによるお返事をさせていただきます。
機器使用申請フォーム
機器使用については以下フォームに必要事項をご記入お願いします。
依頼加工については別途、前中(
)までご連絡ください。
お名前
(必須)
所属
(必須)
工学研究科
大学内(工学研究科以外)
企業
その他
研究室名または企業名
(必須)
メールアドレス
(必須)
使用機器
(必須)
パターンジェネレータ
電子ビーム描画装置
マスクアライナ
両面マスクアライナ
両面マスクアライナその2
DMD露光装置
自作スプレーコータ
ナノインクジェット装置
酸化/拡散炉
高速熱処理装置(RTP)
EB蒸着装置
2源スパッタ装置
5源スパッタ装置
PZTスパッタ装置
LP-CVD装置(SiO2、SiN)
TEOS-LP-CVD装置(SiO2)
Deep-RIE装置(Siのみ)
汎用ICP-RIE装置(メタルもOK)
XeF2シリコンドライエッチング装置
ダイシングマシン
陽極接合装置
ウエハ/チップ接合装置
フリップチップボンダー
精密研磨装置
超音波ボンダ装置
着磁装置
走査電子顕微鏡
電界放射型走査電子顕微鏡
原子間力顕微鏡
表面段差計測装置
共焦点顕微鏡
白色干渉計
レーザドップラ速度計
メニュー
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特別装置(Aクラス)
標準装置の複数利用
標準装置単体使用
使用希望月
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使用希望時間帯
(必須)
9:00-13:00
13:00-17:00
9:00-17:00
それ以外(応談・備考欄にご記入下さい)
備考