Deep-RIE

 装置外観

Deep-RIE.png

 簡易取扱説明書

fileインキュ:Deep-RIE簡易マニュアル_プロセス編(池田).pdf

 概要

  •  4インチウエハ、シリコン専用
  •  Boschプロセスによる垂直エッチング
  •  エッチング速度最大25um/min
  •  対レジストエッチング選択比200以上、対 酸化膜エッチング選択比300以上
  •  ウエハ貫通も可能
  •  ダミーウエハに貼り付けて処理

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