XeF2シリコンドライエッチング装置
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開始行:
* XeF2シリコンドライエッチング装置 [#t04ec9ae]
** 装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./XeF2シリコンドライエッチング装置.png,50%);
** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./XeF2簡易マニュアル.pdf);
** 概要 [#s212667c]
- シリコン等方性エッチング
- 加温、プラズマ不要
- シリコン以外の材質とのエッチング選択性極めて高い
- ウエハ、チップいずれも投入可
- エッチングレートはエッチング面積にかなり依存する
#calendar9
終了行:
* XeF2シリコンドライエッチング装置 [#t04ec9ae]
** 装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./XeF2シリコンドライエッチング装置.png,50%);
** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./XeF2簡易マニュアル.pdf);
** 概要 [#s212667c]
- シリコン等方性エッチング
- 加温、プラズマ不要
- シリコン以外の材質とのエッチング選択性極めて高い
- ウエハ、チップいずれも投入可
- エッチングレートはエッチング面積にかなり依存する
#calendar9
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