TEOS-LP-CVD装置
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開始行:
* TEOS-LP-CVD装置 [#pd06fdd0]
** 装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./TEOS-LP-CVD装置.png,50%);
** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./オープン実験棟:TEOS簡易マニュアル2014(佐野).pdf...
** 概要 [#s212667c]
- プラズマアシストLP-CVD
- TEOSによるSiO2成膜(350℃)
- 4インチウエハ導入可
- 成膜レート40nm/min程度
#calendar9
終了行:
* TEOS-LP-CVD装置 [#pd06fdd0]
** 装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./TEOS-LP-CVD装置.png,50%);
** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./オープン実験棟:TEOS簡易マニュアル2014(佐野).pdf...
** 概要 [#s212667c]
- プラズマアシストLP-CVD
- TEOSによるSiO2成膜(350℃)
- 4インチウエハ導入可
- 成膜レート40nm/min程度
#calendar9
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