5源スパッタ装置
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開始行:
* 5源スパッタ装置 [#bd87e54d]
** 装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./5源スパッタ装置.png,50%);
** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf);
** 概要 [#s212667c]
- 5源RFマグネトロンスパッタ
-- ただしRF電源(300W)は1台
-- デポレート比較的低い 〜0.1nm/s@100W(DC自己バイアス9...
- 基板加熱可(<500℃)
- Cr、Ni、Au、Al、Cu等金属汎用
- ターゲットは2インチ
- 試料4インチ(試料回転機構により膜厚均一化)
- 比較的新しい装置だが、あまり使い易くない(試料導入、チ...
#calendar9
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* 5源スパッタ装置 [#bd87e54d]
** 装置外観 [#cee4ec47]
&ref(./5源スパッタ装置.png,50%);
** 簡易取扱説明書 [#p2e16d34]
&ref(./エイコスパッタ装置取り扱いマニュアル.pdf);
** 概要 [#s212667c]
- 5源RFマグネトロンスパッタ
-- ただしRF電源(300W)は1台
-- デポレート比較的低い 〜0.1nm/s@100W(DC自己バイアス9...
- 基板加熱可(<500℃)
- Cr、Ni、Au、Al、Cu等金属汎用
- ターゲットは2インチ
- 試料4インチ(試料回転機構により膜厚均一化)
- 比較的新しい装置だが、あまり使い易くない(試料導入、チ...
#calendar9
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